كشف باحثون في شركة ASML الهولندية عن تطوير تقنية مبتكرة لرفع قدرة مصادر الضوء في آلات الطباعة بالأشعة فوق البنفسجية القصوى (EUV) إلى مستوى 1000 واط، مقارنة بـ 600 واط حالياً، ما يُتوقع أن يزيد إنتاج الرقائق بنسبة تصل إلى 50% بحلول نهاية العقد الجاري.
وقال المدير التنفيذي للشركة، تون فان جوخ، في تصريحات لوكالة رويترز، إن هذا الاختراق يمكن أن يرفع قدرة آلات الطباعة الحجرية إلى حوالي 330 رقاقة سيليكون في الساعة لكل آلة بحلول عام 2030، مقارنة بـ 220 رقاقة حالياً.
تعتمد التقنية الجديدة على توجيه ليزر عالي الطاقة على قطرات من القصدير المصهور، لتحويلها إلى بلازما فائقة السخونة تُصدر ضوءاً بطول موجي 13.5 نانومتر، وهو المستوى المطلوب لإنتاج الشرائح الأكثر تقدماً من الناحية التقنية.
وأكد مسؤولو ASML أن الوصول إلى قدرة 1000 واط يُعد خطوة قابلة للتوسع، مع وجود مسار تقني واضح لزيادة القدرات الإنتاجية مستقبلاً، مما يعزز تفوق الشركة في سوق معدات تصنيع الرقائق المتقدمة ويتيح تصنيع شرائح أكثر تطوراً بكفاءة أعلى.
